10 maart 2020
Prof. dr. Joost W.M. Frenken
Computerchips worden voortdurend krachtiger en vinden hun weg naar steeds meer toepassingen. Deze ontwikkeling wordt stevig aangejaagd door innovaties op het terrein van lithografie, een van de sleuteltechnologieën bij de vervaardiging van de chips. In deze voordracht wordt de rol beschreven van het nieuwe onderzoekscentrum ARCNL, het Advanced Research Center for Nanolithography, dat fundamenteel onderzoek verricht op terreinen die nu al van belang zijn voor deze technologie of dat in de toekomst kunnen worden. We werpen eerst een uitgebreide blik op de allernieuwste, door ASML ontwikkelde lithografiemethode, waarbij gebruik wordt gemaakt van extreem ultraviolet (EUV) licht. Het onderzoek van ARCNL wordt geïllustreerd aan de hand van enkele voorbeelden, o.a. op het terrein van het genereren van het bijzondere EUV licht, het nauwkeurig waarnemen van diep begraven structuren en wrijvingsverschijnselen op de schaal van atomen en moleculen.
